| 基于Comsol的双环磁控溅射靶的磁场模拟分析 |
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| 引用本文： | 薛莹洁,陈海峰.基于Comsol的双环磁控溅射靶的磁场模拟分析[J].人工晶体学报,2016,45(6):1696-1702. |
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| 作者姓名： | 薛莹洁 陈海峰 |
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| 作者单位： | 陕西科技大学机电工程学院,西安,710021 |
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| 摘 要： | 影响靶材刻蚀特性的主要因素来自平行靶面的磁场分布,为了得到更优的磁控靶结构参数以实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文利用Comsol软件对双环磁控溅射靶的靶面水平磁感应强度分布进行模拟分析,得出了当内磁环高度h=10 mm,外磁环与靶材间距d=7 mm时的靶面水平磁感应强度分布较为理想.除此之外,还探讨了加装导磁片对靶面水平磁感应强度的影响,结果表明采用适当的导磁片长度、厚度以及导磁片与磁环之间的间距,对靶材的水平磁场强度分布具有调节作用.在工程应用中,技术人员可以事先对靶材结构进行模拟优化以节省生产周期和成本,对实际生产具有指导意义.
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| 关 键 词： | 双环磁控溅射靶 Comsol模拟 水平磁感应强度 结构参数 |
Simulation Analysis of Magnetic Field of Two-rings Magnetron Sputtering Target by Comsol |
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| XUE Ying-jie,CHEN Hai-feng.Simulation Analysis of Magnetic Field of Two-rings Magnetron Sputtering Target by Comsol[J].Journal of Synthetic Crystals,2016,45(6):1696-1702. |
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| Authors: | XUE Ying-jie CHEN Hai-feng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | two-rings magnetron sputtering target comsol simulation horizontal magnetic flux density structural parameter |
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