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大面积金刚石薄膜沉积系统的研究
引用本文:陈琦,常明,曲长庆,陈发亮,沈锋英.大面积金刚石薄膜沉积系统的研究[J].天津理工大学学报,2008,24(1):21-23.
作者姓名:陈琦  常明  曲长庆  陈发亮  沈锋英
作者单位:天津理工大学,电子信息与通信工程学院,天津,300191
基金项目:天津重点科技攻关专项项目(06YFGZSH00300)
摘    要:介绍热丝化学气相沉积(HFCVD)法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计,设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路系统,给出了该设备的性能指标参数.该设备可以用于沉积高质量的大面积金刚石膜,沉积的金刚石薄厚膜直径最大可达220 mm,膜沉积速率为1~2μm/h.

关 键 词:金刚石膜  大面积  HFCVD  系统设计  热丝架
文章编号:1673-095X(2008)01-0021-03
修稿时间:2007年9月14日

Study on equipment for large area diamond thin film deposition
CHEN Qi,CHANG Ming,QU Chang-qing,CHEN Fa-liang,SHEN Feng-ying.Study on equipment for large area diamond thin film deposition[J].Journal of Tianjin University of Technology,2008,24(1):21-23.
Authors:CHEN Qi  CHANG Ming  QU Chang-qing  CHEN Fa-liang  SHEN Feng-ying
Abstract:
Keywords:diamond film  large area  HFCVD  the design of system  hot-filament device
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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