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后摩尔时代的碳基电子技术:进展、应用与挑战
引用本文:刘一凡,张志勇.后摩尔时代的碳基电子技术:进展、应用与挑战[J].物理学报,2022(6):7-42.
作者姓名:刘一凡  张志勇
作者单位:北京大学纳米器件物理与化学教育部重点实验室碳基电子学研究中心
基金项目:国家重点研发计划(资助号:2016YFA0201901)资助的课题~~;
摘    要:近六十年来,以硅为核心材料的半导体技术,特别是CMOS集成电路技术推动了人类信息社会的深刻变革,但也逐渐接近其物理极限和工程极限,全球半导体产业已经进入后摩尔时代.半导体性碳纳米管具有高迁移率、超薄体等诸多优异的电学特性,因此成为后摩尔时代新型半导体材料的有力候选.基于碳纳米管的碳基电子技术历经二十余年发展,在材料制备、器件物理和晶体管制备等基础性问题中也已经取得了根本性突破,其产业化进程从原理上看已经没有不可逾越的障碍.因此,本文着重介绍了碳基电子技术在后摩尔时代的本征优势,综述了碳基电子技术的基础性问题、进展和下一步的优化方向,及其在数字集成电路、射频电子、传感器、三维集成和特种芯片等领域的应用前景.最后,本文还分析了碳基电子技术产业化进程中的综合性挑战,并对其未来发展做出预测和展望.

关 键 词:碳纳米管  碳基电子技术  CMOS晶体管  集成电路
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