|
|||||
|
|
| 直流磁控溅射制备YBCO高Tc超导薄膜过程中靶成分的在线监测 | |
| 引用本文： | 刘隆鉴,沈杰.直流磁控溅射制备YBCO高Tc超导薄膜过程中靶成分的在线监测[J].低温物理学报,1995,17(3):242-248. |
| 作者姓名： | 刘隆鉴 沈杰 |
| 作者单位： | 四川工业学院物理系，复旦大学材料科学系 |
| 摘 要： | 本阐述了用单色仪和光电倍增管对平面直流磁控溅射制备ＹＢＣＯ高Ｔｃ超导薄膜过程中靶的放电成分变化情况进行在线监测的实验方法，设备和过程，得到了Ｏ２：Ａｒ＝１：４时，靶表面成份随时间变化的关系和相应薄膜的质量，并对实验结果进行了讨论。 |
| 关 键 词： | YBCO 超导薄膜 直流磁控溅射 靶成分 在线监测 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |