|
|||||
|
|
| 掠出射X射线荧光分析方法 | |
| 作者姓名： | 徐清 魏向军 黄宇营 何伟 |
| 作者单位： | 1 中国科学院高能物理研究所 北京 100049;2 兰州大学物理科学与技术学院 兰州 730000 |
| 摘 要： | 报道了由中国科学院高能物理研究所自行研制的掠出射X射线荧光分析(GEXRF)装置.掠出射X射线荧光分析不仅可以测量薄膜的成分, 而且可确定薄膜的厚度, 密度和化学成分随深度的变化.利用该装置, 在X射线发生器和北京同步辐射装置上, 对硅基体上的金属薄膜(Ni, Ni/Ti)和砷化镓晶体进行了掠出射X射线荧光分析. 所得结果表明, 掠出射X射线荧光分析是一种分析薄膜厚度, 密度等特性的有力工具. |
| 关 键 词： | 掠出射X射线荧光 仪器研制 薄膜 |
| 收稿时间： | 2005-10-28 |
| 点击此处可从《中国物理 C》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《中国物理 C》下载全文 | |