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| 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法EI北大核心CSCD | |
| 引用本文： | 王磊,李思坤,王向朝,闫观勇,杨朝兴.基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法EI北大核心CSCD[J].光学学报,2015(4):287-297. |
| 作者姓名： | 王磊 李思坤 王向朝 闫观勇 杨朝兴 |
| 作者单位： | 1.中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室201800;2.中国科学院大学100049; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(61275207；61205102；61405210) |
| 摘 要： | 提出了一种基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法。将光源信息编码为粒子,利用图形误差作为评价函数,通过更新粒子的速度与位置信息不断迭代优化光源图形。对周期接触孔阵列和含有交叉门的复杂掩模图形的仿真验证表明,两者的图形误差分别降低了66.1%和27.3%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的光源优化方法相比,该方法具有更快的收敛速度。另外,还研究了像差和离焦对本方法稳健性的影响。 |
| 关 键 词： | 光学制造 光刻 分辨率增强技术 光源掩模优化 光源优化 粒子群优化 |
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