Thin-film analysis by 100 keV proton beam

Summary 100 keV proton beams have been used for measuring thickness, implanted doses, ion-mixing process and sputtering yield in thin films. The method potentiality and the possibility to executein situ measurements are shown. Calibration methods, based on proton-induced X-ray emission, have been determined by using Rutherford backscattering analysis.

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Riassunto Fasci di protoni a bassa energia (100 keV) sono stati adoperati per eseguire misure di spessori di film sottili, misurein situ di dosi impiantate, studio di processi di mescolamento di ioni e determinazioniin situ di fattori di sputtering di diversi materiali. Il lavoro si propone di mostrare le capacità del metodo e la possibilità di poter eseguire misurein situ. La calibrazione dei vari metodi di analisi, basati sulla fluorescenza X indotta dal fascio di protoni incidente, è stata eseguita comparandone i risultati con quelli ottenuti dalla tradizionale tecnica del Rutherford backscattering.

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Резюме Пучки протонов с энергий 100 кэВ используются для измерения толщины, дозы имплантации, процесса смешивания ионов и выхода распыления в тонких пленках. Обсуждаются возможности метода. Методы градуировки, основанные на рентгеновском излучении, индуцированном протонами, детерминируются с помощью анализа обратного резерфордовского рассеяния.