| XPS研究Nd表面氧化物的生长过程 |
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| 引用本文： | 李雅,陈玲燕,张哲,吴永刚,乔轶,徐炜新.XPS研究Nd表面氧化物的生长过程[J].物理学报,2001,50(1):79-82. |
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| 作者姓名： | 李雅 陈玲燕 张哲 吴永刚 乔轶 徐炜新 |
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| 作者单位： | (1)上海金属实验室,上海200940; (2)同济大学波耳固体物理研究所,上海200092 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划!(批准号 :86 3 410 3 9)资助的课题, |
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| 摘 要： | 用X射线光电子能谱(XPS)研究新鲜Nd表面在不同氧气和空气进气量的情况下,表面氧化物的生长过程.发现氧化层由氧化物、氢氧化物及表面化学吸附水三种成分,这三种成分的增加与进气量都存在正比对数关系,氧化物和吸附水在一定进气量后趋于饱和,而氢氧化物持续不断增加,最终氢氧化物占据主要地位.
关键词：
X射线光电子能谱(XPS)
Nd
氧化
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| 关 键 词： | X射线光电子能谱(XPS) Nd 氧化 |
| 收稿时间： | 6/3/2000 12:00:00 AM |
| 修稿时间： | 2000年6月3日 |
A STUDY ON OXIDE FILM GROWTH ON Nd SURFACE USING XPS |
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| LI YA,CHEN Ling-Yan,ZHANG ZHE,WU Yong-gang,QIAO YI,XU Wei-Xin.A STUDY ON OXIDE FILM GROWTH ON Nd SURFACE USING XPS[J].Acta Physica Sinica,2001,50(1):79-82. |
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| Authors: | LI YA CHEN Ling-Yan ZHANG ZHE WU Yong-gang QIAO YI XU Wei-Xin |
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| Abstract: | X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) has been used to follow oxide film growth on pure Nd surface over a wide range of exposure to oxygen and air.Oxide film was noticed to consist of oxide,hydroxide and chemically absorbed water,all of which exhibited logarithmic-type growth kinetics.The oxide and chemically absorbed water stop growing after a certain exposure,whereas the hydroxide,which plays a significant role ultimately,shows continued and persistent growth. |
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| Keywords: | X-ray photoelectron spectroscopy Nd oxidation |
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