|
|||||
|
|
| 涂层导体外延MgO层的织构与表面形貌探究（英文） | |
| 摘 要： | 采用直流反应磁控溅射技术在IBAD-MgO基底上外延生长MgO.良好的MgO薄膜(面内织构度FWHM7°,表面均方根粗糙度RMS2nm)能够在较宽的温度区间400℃到500℃间获得.对于温度影响的MgO薄膜生长,我们采用了基于密度泛函的第一性原理进行模拟,得到与实验结果相符合的结论:过高的温度在损害薄膜织构的同时,会造成表面粗糙度的增加.而与之相反的:薄膜厚度由40nm增加到600nm时,薄膜织构虽然优化但会损害薄膜表面.薄膜的岛状生长与Ehrlich–Schwoebel(ES)势垒,是造成表面恶化的主要原因. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |