| 源搅拌对混响室场均匀性的改善 |
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| 引用本文： | 李爽, 王建国. 源搅拌对混响室场均匀性的改善[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(10). |
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| 作者姓名： | 李爽 王建国 |
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| 作者单位： | 1.西北核技术研究所, 西安 71 0024;;;2.西安交通大学 电子信息工程学院, 西安 71 0049 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(60971080) |
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| 摘 要： | 研究了在短脉冲波激励下，源搅拌方法对混响室内场分布的影响效果。分析了混响室内场分布特征的影响因素，得到了影响源搅拌的相关参量。研究改变激励源的位置对腔体内场分布的影响效果，主要对比了电场的最大值、分布标准差等电场统计特征。结果表明：通过连续地移动激励源对场分布进行搅拌，混响室内的电场最大值可以达到约6.7 kV/m，而且场值的空间分布标准差降至3 dB以下，能量分布也更加均衡。因此，采用源搅拌方法可以有效地改善腔内的场分布，提高场分布的均匀性，有利于构造均匀的电磁场环境。
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| 关 键 词： | 混响室 高功率微波 源搅拌 场均匀性 |
| 收稿时间： | 1900-01-01; |
Improvement of field uniformity by stirring source in reverberation chamber |
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| li shuang, wang jianguo. Improvement of field uniformity by stirring source in reverberation chamber[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23. |
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| Authors: | Li Shuang Wang Jianguo |
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| Affiliation: | 1. Northwest Institute of Nuclear Technology,P.O.Box 69-12,Xi’an 710024,China;;;2. School of Electronic and Information Engineering,Xi’an Jiaotong University,Xi’an 710049,China |
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| Abstract: | This article mainly studies the influence of source stirring on the field characteristics,especially the field uniformity,in the reverberation chamber under short pulse excitation.Firstly,the factors that may affect the field distribution are summarized.Then the focus is on the effects of moving the sources consecutively on the electromagnetic field distributions,including the maximum and the standard deviation of electric field strength.The results show that the maximum of electric field strength can reach... |
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| Keywords: | reverberation chamber high power microwave source stirring field uniformity |
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