| 用椭偏法研究掺磷a-Si:H薄膜的光学特性 |
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| 引用本文： | 匡跃军,李伟,廖乃镘,蒋亚东,宋震,黄清海,祁康成.用椭偏法研究掺磷a-Si:H薄膜的光学特性[J].半导体光电,2007,28(6):829-832. |
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| 作者姓名： | 匡跃军 李伟 廖乃镘 蒋亚东 宋震 黄清海 祁康成 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,光电信息学院,四川,成都,610054 |
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| 摘 要： | 用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备了磷掺杂氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜.分别以50°和70°为入射角,测试了样品在300～1000nm波长的椭偏光谱,得到了其膜厚和光学常数谱(折射率和消光系数随波长变化谱),并应用Tauc作图法推算出了薄膜的光学带隙.
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| 关 键 词： | 椭偏法 掺磷a-Si∶H薄膜 光学常数 |
| 文章编号： | 1001-5868（2007）06-0829-04 |
| 收稿时间： | 2007-04-17 |
| 修稿时间： | 2007年4月17日 |
Study on the Optical Properties of P-doped a-Si:H Thin Films by Spectroscopic Ellipsometry |
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| KUANG Yue-jun,LI Wei,LIAO Nai-man,JIANG Ya-dong,SONG Zhen,HUANG Qing-hai,QI Kang-cheng.Study on the Optical Properties of P-doped a-Si:H Thin Films by Spectroscopic Ellipsometry[J].Semiconductor Optoelectronics,2007,28(6):829-832. |
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| Authors: | KUANG Yue-jun LI Wei LIAO Nai-man JIANG Ya-dong SONG Zhen HUANG Qing-hai QI Kang-cheng |
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