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闪光照相中MeV级网栅的设计
引用本文:刘军,刘进,管永红,景越峰. 闪光照相中MeV级网栅的设计[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(8). DOI: 10.3788/HPLPB20112308.2047
作者姓名:刘军  刘进  管永红  景越峰
作者单位:中国工程物理研究院 流体物理研究所, 四川 绵阳 621900
基金项目:中国工程物理研究院科学技术发展基金项目(2009A0203013,2010B0202021)
摘    要: 通过理论分析,确定了MeV级多孔网栅的设计目标、拟采用的照相布局及图像接收系统。在此基础上,通过蒙特卡罗模拟和理论分析,确定了网栅的主要参数,包括网栅厚度、孔径与孔间距和W薄片厚度,并研究了加工误差和非理想照相因素对网栅性能的影响,最后给出了原理样机的设计参数。针对原理样机开展了数值模拟,利用模拟图像进行了网栅图像修补与插值等图像预处理工作,初步验证了原理样机在实际应用中的可行性。

关 键 词:MeV级网栅  散射  蒙特卡罗模拟  闪光照相
收稿时间:1900-01-01;

Design of MeV anti-scatter grid in flash radiography
Liu Jun,Liu Jin,Guan Yonghong,Jing Yuefeng. Design of MeV anti-scatter grid in flash radiography[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23(8). DOI: 10.3788/HPLPB20112308.2047
Authors:Liu Jun  Liu Jin  Guan Yonghong  Jing Yuefeng
Affiliation:(Institute of Fluid Physics, CAEP, P.O.Box 919-105, Mianyang 621900, China)
Abstract:Scattered radiation,which seriously decreases the precision of image reconstruction in high energy flash X-ray radiography,can be largely diminished by anti-scatter grid.The design aim of MeV anti-scatter grid is firstly presented,and the radiographic system layout and the imaging system are given using theoretic analysis.Then parameters of anti-scatter grid,such as the total thickness,aperture and space between holes,and the thickness of W thin foil with small holes,are detailed using Monte Carlo simulatio...
Keywords:MeV anti-scatter grid  scatter  Monte Carlo simulation  flash radiography  
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