| 化学溶液沉积法在LaAlO3基底上制备La0.5Sr0.5TiO3外延薄膜 |
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| 引用本文： | 高锋,李凤华,李英楠,王娜,樊占国.化学溶液沉积法在LaAlO3基底上制备La0.5Sr0.5TiO3外延薄膜[J].中国稀土学报,2009,27(1). |
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| 作者姓名： | 高锋 李凤华 李英楠 王娜 樊占国 |
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| 作者单位： | 东北大学材料与冶金学院,辽宁,沈阳,110004 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金委员会青年科学基金，辽宁省博士科研启动基金 |
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| 摘 要： | 在常压下采用经济、适合规模化生产的化学溶液沉积法生长外延的La1-xSrxTiO3薄膜, 为YBa2Cu3O7-σ(YBCO)涂层导体提供导电缓冲层. 前驱溶液经旋转涂覆在单晶LaAlO3(001)基底上, 在纯氩气氛下分别于840, 890, 940和990 ℃恒温60 min制备薄膜. X射线衍射(XRD)分析, 在890～990 ℃的热处理条件下, 均得到纯净的具有良好外延性的La1-xSrxTiO3薄膜. 通过扫描电子显微镜(SEM)和扫描隧道显微镜(STM)观察, 样品表面光滑致密, 膜厚约为180 nm. 通过半定量能谱(EDS)分析, 确定薄膜成分为La0.4Sr0.6TiO3, 表明热处理过程中元素La部分挥发. 在890 ℃热处理温度下制得薄膜的电阻率约为1×10-2 Ω · cm.
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| 关 键 词： | 化学溶液沉积 缓冲层 超导薄膜 稀土 |
Preparation of Epitaxial La0.5Sr0.5TiO3 Thin Films on LaAlO3 Substrates by Chemical Solution Deposition |
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| Gao Feng,Li Fenghua,Li Yingnan,Wang Na,Fan Zhanguo.Preparation of Epitaxial La0.5Sr0.5TiO3 Thin Films on LaAlO3 Substrates by Chemical Solution Deposition[J].Journal of the Chinese Rare Earth Society,2009,27(1). |
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| Authors: | Gao Feng Li Fenghua Li Yingnan Wang Na Fan Zhanguo |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | La0 5Sr0 5TiO3 |
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