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聚焦离子束加工技术及其应用
引用本文:马向国,顾文琪.聚焦离子束加工技术及其应用[J].微纳电子技术,2005,42(12):575-578.
作者姓名:马向国  顾文琪
作者单位:1. 中国科学院电工研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院电工研究所,北京,100080
摘    要:对聚焦离子束加工技术在集成电路芯片的诊断与修改、修复光刻掩模缺陷、制作透射电镜样品以及多用途微切割上的应用作了详细介绍。

关 键 词:聚焦离子束  液态金属离子源  应用
文章编号:1671-4776(2005)12-0575-03
修稿时间:2005年8月26日

Nanofabrication and Applications of Focused Ion Beam Technology
MA Xiang-guo,GU Wen-qi.Nanofabrication and Applications of Focused Ion Beam Technology[J].Micronanoelectronic Technology,2005,42(12):575-578.
Authors:MA Xiang-guo  GU Wen-qi
Institution:MA Xiang-guo1,2,GU Wen-qi1
Abstract:The applications of focused ion beam technology,for example,diagnose and modification of IC CMOS chip,repair of mask defect,making samples of TEM,multi-useful tool for tiny cut and so on,were introduced in details.
Keywords:focused ion beam(FIB)  liquid metal ion source  application
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