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| 第四届全国表面和界面物理会议简介 | |
| 引用本文： | 张泽华.第四届全国表面和界面物理会议简介[J].物理,1987(2). |
| 作者姓名： | 张泽华 |
| 摘 要： | 第四届全国表面和界面物理学术会议于1986年多月20日至23日在合肥董铺岛举行.参加会议的代表来自21个省市18个研究所、38所大学和六个工厂等共224人. 本届会议的第一个特点是论文很多.有243篇.论文涉及到表面和界面研究的各个主要方面,包括表面和界面成分分析,表面原子结构和表面电子态,表面吸附和脱附,各种物质的界面研究,外延超晶格和量子阶,二维电子气,表面分沂仪器和技术,以及表面科学在各个领域中的应用等.这说明表面研究已在我国有了较大的发展.特别是在当前国际的一些前沿课题,如硅和Ⅲ-V族化合物半导体的清洁和吸附表面的原子结构… |
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