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6H-SiC高压肖特基势垒二极管
引用本文:王姝睿,刘忠立,徐萍,葛永才,姚文卿,高翠华.6H-SiC高压肖特基势垒二极管[J].半导体学报,2001,22(8):1052-1056.
作者姓名:王姝睿  刘忠立  徐萍  葛永才  姚文卿  高翠华
作者单位:中国科学院半导体研究所!北京100083
摘    要:在可商业获得的 N型 6 H - Si C晶片上 ,通过化学气相淀积 ,进行同质外延生长 ,在此结构材料上 ,通过热蒸发 ,制作 Ni/6 H- Si C肖特基势垒二极管 .测量并分析了肖特基二极管的电学特性 ,结果表明 ,肖特基二极管具有较好的整流特性 :反向击穿电压约为 45 0 V,室温下 ,反向电压 VR=- 2 0 0 V时 ,反向漏电流 JL=5× 10 - 4 A· cm- 2 ;理想因子为 1.0 9,肖特基势垒高度为 1.2 4— 1.2 6 e V ,开启电压约为 0 .8V

关 键 词:碳化硅    肖特基势垒二极管    6H-SiC
文章编号:0253-4177(2001)08-1052-05
修稿时间:2000年9月9日

6H-SiC High-Voltage Schottky Barrier Diodes
WANG Shu-rui,LIU Zhong-li,XU Ping,GE Yong-cai,YAO Wen-qing and GAO Cui- hua.6H-SiC High-Voltage Schottky Barrier Diodes[J].Chinese Journal of Semiconductors,2001,22(8):1052-1056.
Authors:WANG Shu-rui  LIU Zhong-li  XU Ping  GE Yong-cai  YAO Wen-qing and GAO Cui- hua
Abstract:
Keywords:silicon carbide  Schottky barrier diode  6H-SiC  
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