| 硼掺杂和氮掺杂金刚石的吸附生长过程研究 |
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| 引用本文： | 简小刚,杨培康,黄新,胡吉博.硼掺杂和氮掺杂金刚石的吸附生长过程研究[J].人工晶体学报,2020,49(4):592-599. |
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| 作者姓名： | 简小刚 杨培康 黄新 胡吉博 |
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| 作者单位： | 同济大学机械与能源工程学院,上海 201804;同济大学机械与能源工程学院,上海 201804;同济大学机械与能源工程学院,上海 201804;同济大学机械与能源工程学院,上海 201804 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51275358);中央高校专项基金(20140750) |
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| 摘 要： | 采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法,探究了化学气相沉积硼掺杂和氮掺杂金刚石的吸附生长过程:建立了一端为氢终止表面的金刚石基底模型以及单个氮取代或单个硼取代的掺杂金刚石基底模型,并计算这些模型的最优稳定结构;研究了不同碳氢基团(C、CH、CH2、CH3)、硼氢基团(B、BH、BH2)和氮氢基团(N、NH、NH2)在有活性位点的不同基底上的吸附过程和吸附难易程度.对比计算结果表明:硼原子和氮原子能通过原位取代的方式掺杂进入金刚石晶格中,并且带有两个氢的基团(BH2、NH2)是最有利的掺杂基团;氮原子通过取代进入金刚石晶格中后,难以形成氮二聚体,不能大量掺杂,而硼原子较易形成硼二聚体,可以实现大量掺杂.
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| 关 键 词： | 掺杂金刚石 化学气相沉积 活性位点 第一性原理 吸附生长 |
Study on the Adsorption Growth Process of B-doped and N-doped Diamonds |
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| JIAN Xiaogang,YANG Peikang,HUANG Xin,HU Jibo.Study on the Adsorption Growth Process of B-doped and N-doped Diamonds[J].Journal of Synthetic Crystals,2020,49(4):592-599. |
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| Authors: | JIAN Xiaogang YANG Peikang HUANG Xin HU Jibo |
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