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VGF法半绝缘GaAs单晶EL2浓度优化研究
引用本文:兰天平,边义午,周春锋,宋禹.VGF法半绝缘GaAs单晶EL2浓度优化研究[J].人工晶体学报,2020,49(3):412-416.
作者姓名:兰天平  边义午  周春锋  宋禹
作者单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300220;中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300220;中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300220;中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300220
基金项目:国防科工局进口替代专项
摘    要:为了获得高电阻率及迁移率的半绝缘GaAs单晶材料,采用经高压及水平合成不同工艺制得的GaAs多晶料,进行垂直梯度凝固(V GF)法半绝缘GaAs单晶生长,测试和分析相应单晶片的EL2浓度、C浓度及电阻率、迁移率等性能参数,对比和分析了GaAs化学计量比的不同对单晶EL2浓度及电学参数的影响,经多炉次实验,确定出GaAs单晶电阻率>1×108Ω·cm及迁移率>5×103 cm2/(V·s)时C浓度及EL2浓度的合理范围,并据此结论,指导MBE外延用半绝缘GaAs单晶生长,保证了半绝缘GaAs单晶在满足高电阻率和迁移率的同时,具有较高的重复性和一致性.

关 键 词:砷化镓  垂直梯度凝固法  半绝缘  晶体生长  EL2

Study on EL2 Concentration Optimization of VGF Semi-insulating Gallium Arsenide Single Crystal
LAN Tianping,BIAN Yiwu,ZHOU Chunfeng,SONG Yu.Study on EL2 Concentration Optimization of VGF Semi-insulating Gallium Arsenide Single Crystal[J].Journal of Synthetic Crystals,2020,49(3):412-416.
Authors:LAN Tianping  BIAN Yiwu  ZHOU Chunfeng  SONG Yu
Abstract:
Keywords:
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