首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响
引用本文:刘欢,朱如忠,龚建超,王琦琨,付丹扬,雷丹,黄嘉丽,吴亮. 高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(8): 1541-1547
作者姓名:刘欢  朱如忠  龚建超  王琦琨  付丹扬  雷丹  黄嘉丽  吴亮
作者单位:上海大学材料科学与工程学院,省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室,上海市钢铁冶金新技术开发应用重点实验室,上海200444;奥趋光电技术(杭州)有限公司,杭州311106
摘    要:采用直流反应磁控溅射与高温退火工艺大批量制备了膜厚为200 nm、400 nm及800 nm的2英寸蓝宝石基氮化铝模板,并对高温退火前后不同膜厚模板使用各种表征手段进行对比分析.结果 表明:采用磁控溅射制备膜厚为200 nm的模板经高温退火后晶体质量得到显著提升,退火前后整片(0002)面和(10-12)面高分辨率X射线衍射摇摆曲线半高宽分别从632 ~ 658 arcsec和2 580 ~2 734 arcsec下降至70.9 ~ 84.5 arcsec和273.6 ~ 341.6 arcsec;模板5 μm×5μm区域内均方根粗糙度小于1 nm;紫外波段260 ~280 nm吸收系数为14 ~20 cm-1;高温退火前后拉曼图谱E2(high)声子模特征峰半高宽从13.5 cm-1降至5.2 cm-1,峰位从656.6 cm-1移动至657.6 cm-1,表明氮化铝模板内的拉应力经高温退火后得到释放,接近无应力状态.

关 键 词:氮化铝  磁控溅射  高温退火  结晶质量  蓝宝石基  模板

Effect of High Temperature Annealing on Sapphire-based Aluminum Nitride Templates Fabricated by DC Reactive Magnetron Sputtering
LIU Huan,ZHU Ruzhong,GONG Jianchao,WANG Qikun,FU Danyang,LEI Dan,HUANG Jiali,WU Liang. Effect of High Temperature Annealing on Sapphire-based Aluminum Nitride Templates Fabricated by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2020, 49(8): 1541-1547
Authors:LIU Huan  ZHU Ruzhong  GONG Jianchao  WANG Qikun  FU Danyang  LEI Dan  HUANG Jiali  WU Liang
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号