| 极谱法研究金属络合物时滴汞电极表面络合剂浓度的表达式 |
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| 引用本文： | 周本省. 极谱法研究金属络合物时滴汞电极表面络合剂浓度的表达式[J]. 化学学报, 1982, 40(2): 185-190 |
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| 作者姓名： | 周本省 |
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| 作者单位： | 南京化工学院 |
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| 摘 要： | 在极谱学中,各作者得到的从半波电位E1/2求络合物稳定常数的公式中,都要用到半波电位E1/2和汞滴表面络合剂Xb-的平衡浓度[X]0这两个最基本的量[1-11].其中,E1/2这个量不但可以从实验上直接测定,而且它与标准电极电位、稳定常数、活度系数、扩散系数以及汞滴表面络合剂的平衡浓度等的关系式已由许多学者[1-6]从理论上进行了推导.
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THE EXPRESSION FOR THE CONCENTRATION OF COMPLEXING AGENT AT A DROPPING MERCURY ELECTRODE SURFACE IN POLAROGRAPHIC STUDIES OF METAL COMPLEXES |
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| ZHOU BEN-SHENG. THE EXPRESSION FOR THE CONCENTRATION OF COMPLEXING AGENT AT A DROPPING MERCURY ELECTRODE SURFACE IN POLAROGRAPHIC STUDIES OF METAL COMPLEXES[J]. Acta Chimica Sinica, 1982, 40(2): 185-190 |
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| Authors: | ZHOU BEN-SHENG |
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| Affiliation: | Nanjing Institute of Chemical Technology |
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