| 磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 戴君,王兴治,何少伟,马宏,易新建.磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究[J].红外与激光工程,2007,36(Z1). |
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| 作者姓名： | 戴君 王兴治 何少伟 马宏 易新建 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 主要介绍了红外探测器的分类、发展,及基于氧化钒薄膜的热探测器的优势;采用直流磁控溅射法在相对较低温度220℃下制备出电阻温度系数(TCR)为-1.9%/℃的VOx薄膜.通过XRD、AFM、红外透过测试方法对薄膜的形貌、组分及其红外吸收性能进行分析,结果表明该VOx薄膜非常适合用作非制冷红外探测器热敏材料.与传统的工艺相比,由于该薄膜淀积过程无需高温退火,在后期的红外焦平面制作过程中,可以较好地保护红外焦平面阵列的CMOS电路.
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| 关 键 词： | 氧化钒薄膜 非制冷红外探测器 磁控溅射 |
Study of fabricating vanadium oxide thin films by magnetron sputtered method |
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| DAI Jun,WANG Xing-zhi,HE Shao-wei,MA Hong,YI Xin-jian.Study of fabricating vanadium oxide thin films by magnetron sputtered method[J].Infrared and Laser Engineering,2007,36(Z1). |
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| Authors: | DAI Jun WANG Xing-zhi HE Shao-wei MA Hong YI Xin-jian |
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