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| 中纬集成电路(宁波)有限公司工艺技术简介 | |
| 引用本文： | 陈孟邦,黄国华.中纬集成电路(宁波)有限公司工艺技术简介[J].中国集成电路,2004(10):72-74. |
| 作者姓名： | 陈孟邦 黄国华 |
| 作者单位： | 中纬集成电路(宁波)有限公司 |
| 摘 要： | 1.摘要 中纬集成电路(宁波)有限公司,SinoMOSSEMICONDUCTOR(NINGBO)INC.,成立於2002年2月,地处经济发达,交通便利,人文汇聚的浙江省宁波市.中纬集成电路的目标是成为国内领先的半导体制造服务公司,为客户提供高质量和高产出的晶圆代工服务.中纬集成电路总投资额为一亿五千万美元,占地13万平方米,预计共可建设三座晶圆厂.第一期净化厂房面积4300平方米,可提供月产2万5千片6英寸1.0um～0.5umn CMOS晶圆的代工服务.中纬集成电路二厂预计於2005年筹建,使产能持续扩充. |
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