首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

免清洗技术返修工艺研究
引用本文:王香娥,吕淑珍.免清洗技术返修工艺研究[J].洗净技术,2003(3):27-29.
作者姓名:王香娥  吕淑珍
作者单位:电子工业部第二研究所
摘    要:序言 近几年来电子装联工艺引入了许多替代ODS的新型清洗工艺,其中广泛使用的主要有三种:(1)使用免清洗或低残渣焊剂,在这一工艺中印制版路组件不需要清洗;(2)水清洗,在这一工艺中印制电路组件用水和一些附加物进行清洗;(3)替代CFC的清洗材料,在这一印制电路组件工艺中使用无CFC成分的化学溶剂来清洗。然而。取代CFC的最终途径还是实现免清洗。随着免清洗工艺的采用与不断发展,与其


Research on Rework Process of No Cleaning Technology
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号