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遗传算法设计电磁屏蔽减反膜
引用本文:杨尚松,胡九龙,洪乙又,王绪丰,樊卫华.遗传算法设计电磁屏蔽减反膜[J].光电子技术,2014,34(3).
作者姓名:杨尚松  胡九龙  洪乙又  王绪丰  樊卫华
作者单位:1. 中航工业太原航空仪表有限公司,太原,030006
2. 中国电子科技集团第五十五研究所,南京,210011
摘    要:将电磁屏蔽层ITO薄膜作为一层光学薄膜,与TiO2、SiO2、MgF2一起,设计了宽带电磁屏蔽减反膜。给出了含有单层、双层、三层ITO的电磁屏蔽减反膜的膜系结构,其在可见光范围内剩余反射率均小于0.5%,满足ISO9211标准。该薄膜既具备光学减反效果,同时又具备电磁屏蔽功能,可以用作电磁屏蔽视窗。

关 键 词:薄膜  电磁屏蔽  减反膜  遗传算法

Design of EMI Shielding Broadband Antireflective Coating by Genetic Algorithm
YANG Shangsong,HU Jiulong,HONG Yiyou,WANG Xufeng,FAN Weihua.Design of EMI Shielding Broadband Antireflective Coating by Genetic Algorithm[J].Optoelectronic Technology,2014,34(3).
Authors:YANG Shangsong  HU Jiulong  HONG Yiyou  WANG Xufeng  FAN Weihua
Abstract:
Keywords:thin film  EMI shielding  antireflection coating  genetic algorithm
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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