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ZrO2薄膜微结构及其抗激光损伤特性研究
引用本文:刘安平,韩伟峰,黄茂,罗庆春.ZrO2薄膜微结构及其抗激光损伤特性研究[J].红外与毫米波学报,2010,29(5):333-336.
作者姓名:刘安平  韩伟峰  黄茂  罗庆春
作者单位:1. 重庆大学,应用物理系,重庆,400030
2. 重庆光电研究所,重庆,400060
基金项目:国家自然科学基金资助项目(10774196),重庆市科委自然科学基金资助项目(2007BB2120)。
摘    要:通过分析ZrO2薄膜电子束沉积时氧压、衬底转动及温度对薄膜相结构、晶粒尺寸和粗糙度的影响,对ZrO2薄膜微结构特性与抗激光诱导损伤性能的关系进行了研究.ZrO2薄膜衬底无转动沉积时晶体以四方相为主,而转动沉积时形成具有较高激光损伤阈值的单斜相结构.薄膜晶粒尺寸和粗糙度均随氧压的升高而减小,四方相受氧压影响变化明显高于单斜相,氧压的继续升高使多晶形态向非晶形态逐渐转变.多晶结构的损伤阈值随着晶粒尺寸的减小而增高,薄膜表面粗糙度随着沉积温度的升高略有增加,且多晶结构的损伤阈值明显要高于非晶结构,ZrO2薄膜损伤阈值(E)与粗糙度(σ)基本符合关系:Eσα=β(α=1.41,β=2.25).

关 键 词:ZrO2薄膜  电子束蒸发  氧分压  激光损伤阈值
收稿时间:2009/6/29 0:00:00
修稿时间:2009/8/12 0:00:00

MICROSTRUCTURE AND RESISTING LASER DAMAGE PROPERTY OF ZrO2 FILMS
LIU An-Ping,HAN Wei-Feng,HUANG Mao and LUO Qin-Chun.MICROSTRUCTURE AND RESISTING LASER DAMAGE PROPERTY OF ZrO2 FILMS[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2010,29(5):333-336.
Authors:LIU An-Ping  HAN Wei-Feng  HUANG Mao and LUO Qin-Chun
Institution:Chongqing University,Chongqing Optoelectronics Research Institute,Chongqing Optoelectronics research Institute,Chongqing Optoelectronics research Institute
Abstract:
Keywords:ZrO2 Film  Evaporating and depositing with the electron beams  Oxygen pressure  Laser damage threshold
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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