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| Nafion修饰玻碳电极测定痕量地尔硫Zhou的研究 | |
| 引用本文： | 冷宗周,胡效亚.Nafion修饰玻碳电极测定痕量地尔硫Zhou的研究[J].分析化学,1995,23(3):332-335. |
| 作者姓名： | 冷宗周 胡效亚 |
| 摘 要： | 本以玻碳电极为基体，制备了Ｎａｆｉｏｎ修饰电极，研究了非电活性阳离子药物地尔硫Ｚｈｏｕ在该电极上的测定原理及方法，将地尔硫Ｚｈｏｕ加入到含电活性阳离子药物多巴胺的电解质溶液中，使多巴峰电流下降，峰电流的降低与地尔硫Ｚｈｏｕ的浓度对数在１．２×１０＾－７－８．０×１０＾－６ｍｏｌ／Ｌ范围内呈良好线性关系。本方法检测下限为６．２×１０＾８ｍｏｌ／Ｌ；回收率范围为９５．８％－１０４．９％；相对标准偏差 |
| 关 键 词： | 地尔硫Zhuo 修饰电极 伏安法 钙通道阻滞剂 |
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