| 脉冲激光沉积法生长Zn1-xMgxO薄膜 |
| |
| 引用本文： | 邹璐,叶志镇,黄靖云,赵炳辉.脉冲激光沉积法生长Zn1-xMgxO薄膜[J].半导体学报,2002,23(12):1291-1294. |
| |
| 作者姓名： | 邹璐 叶志镇 黄靖云 赵炳辉 |
| |
| 作者单位： | 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027 |
| |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划);G2000068306; |
| |
| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积法,生长出没有组分偏析,晶体质量好的Zn1-xMgxO薄膜(x=0.2).研究了衬底温度对Zn0.8Mg0.2O薄膜晶体质量、晶粒度大小的影响,发现最佳衬底温度为650℃左右.对Zn0.8Mg0.2O薄膜进行了光致发光分析,发现相对ZnO晶体有0.4eV的蓝移.
|
| 关 键 词： | Zn1-xMgxO薄膜 合金 X射线衍射 PL谱 |
| 文章编号： | 0253-4177(2002)12-1291-04 |
| 修稿时间： | 2002年3月10日 |
Growth of Zn1-xMgxO Films by Pulsed Laser Deposition |
| |
| Zou Lu,Ye Zhizhen,Huang Jingyun and Zhao Binghui.Growth of Zn1-xMgxO Films by Pulsed Laser Deposition[J].Chinese Journal of Semiconductors,2002,23(12):1291-1294. |
| |
| Authors: | Zou Lu Ye Zhizhen Huang Jingyun and Zhao Binghui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Zn 1-x Mg x O thin film alloy X ray diffraction PL spectrum |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《半导体学报》下载免费的PDF全文 |
|
