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| 第三届全国光散射学术会议简讯 | |
| 作者姓名： | 蓝国祥 |
| 摘 要： | 第三届全国光散射学术会议于1985年11月7日至11日在武汉大学举行,出席会议的代表有60个单位的160人,会议上宣读的论文近100篇.内容包括用光散射方法对离子晶体、有机晶体和半导体非晶态等材料的结构、相变、光拆变及离子电导等方面的研究.布里渊散射的研究已从物理领域扩展到化 |
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