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一种适用于低压高速嵌入式应用的2T P沟道纳米晶存储器件
引用本文:张君宇,王永,刘璟,张满红,许中广,霍宗亮,刘明.一种适用于低压高速嵌入式应用的2T P沟道纳米晶存储器件[J].半导体学报,2012,33(8):084006-4.
作者姓名:张君宇  王永  刘璟  张满红  许中广  霍宗亮  刘明
基金项目:国家基础研究重大项目基金;国家高技术研究发展计划;国家自然科学基金
摘    要:本文基于嵌入式应用的低压、高速要求,提出了一种基于2T结构的P沟道纳米晶存储新型结构。该器件采用带带隧穿激发热电子注入(BTBTIHE)的编程方式,可以同时实现高速、低功耗编程。同时采用2T结构以简化外围高压和读出电路。该器件具有良好的存储特性,包括高编程速度(5us编程脉冲下获得1.1V窗口)和优异的数据保持特性(在10年的保持时间电荷损失仅为20%)。该器件在嵌入式非挥发存储领域具有很强的应用潜力。

关 键 词:应用程序  内存结构  纳米晶体  NVM  嵌入式  P沟道  非易失性存储器  高转速
修稿时间:3/5/2012 11:14:20 PM

A novel 2 T P-channel nano-crystal memory for low power/high speed embedded NVM applications
Zhang Junyu,Wang Yong,Liu Jing,Zhang Manhong,Xu Zhongguang,Huo Zongliang and Liu Ming.A novel 2 T P-channel nano-crystal memory for low power/high speed embedded NVM applications[J].Chinese Journal of Semiconductors,2012,33(8):084006-4.
Authors:Zhang Junyu  Wang Yong  Liu Jing  Zhang Manhong  Xu Zhongguang  Huo Zongliang and Liu Ming
Institution:Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China;Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China
Abstract:
Keywords:P-channel  select transistor  nano-crystal memory  embedded
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