| 低压化学气相沉积法制备TiO2膜的研究 |
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| 引用本文： | 郭清萍,武正簧.低压化学气相沉积法制备TiO2膜的研究[J].化学研究与应用,1999,11(1):13-16. |
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| 作者姓名： | 郭清萍 武正簧 |
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| 作者单位： | 太原理工大学材料工程学院材料系，太原理工大学应化系 |
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| 基金项目： | 山西省留学归国人员基金 |
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| 摘 要： | 以四异丙醇钛为原料，采用低压化学气相沉积法研究ＴｉＯ２薄膜的沉积条件。采用紫外光谱、Ｘ射线衍射、扫描电镜等测试手段对ＴｉＯ２膜的光学性质及结构形貌进行了表征。实验表明：ＴｉＯ２膜在可见光和近红外范围内的折光率为３．１５，比用常压法制备的ＴｉＯ２膜的折光率高出３６．５％。因而，低压化学气相沉积法是制备高折射率的ＴｉＯ２膜更有效的一种方法。
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| 关 键 词： | LPCVD法，TiO2膜，沉积条件，折光率 |
STUDY ON TiO 2 FILMS DEPOSITED BY LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION |
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| Guo,Qingping.STUDY ON TiO 2 FILMS DEPOSITED BY LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION[J].Chemical Research and Application,1999,11(1):13-16. |
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| Authors: | Guo Qingping |
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| Keywords: | Low pressure chemical vapour deposition TiO 2 film Deposition condition Refractive index |
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