| 直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 叶志镇,唐晋发. 直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究[J]. 光学学报, 1988, 0(5) |
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| 作者姓名： | 叶志镇 唐晋发 |
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| 作者单位： | 浙江大学光仪系(叶志镇)，浙江大学光仪系(唐晋发) |
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| 基金项目： | 国家教委博士点资助课题 |
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| 摘 要： | 本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论建立了物理模型,分析与计算了薄膜从可见到红外光波段的光学性能,结果表明,理论计算与实测值两者符合得较好.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 透明导电膜 |
Study of transparent conducting indium-doped ZnO films prepared by D. C. reactive magnetron sputtering |
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| YE ZHIZHENG AND TANG JINFA. Study of transparent conducting indium-doped ZnO films prepared by D. C. reactive magnetron sputtering[J]. Acta Optica Sinica, 1988, 0(5) |
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| Authors: | YE ZHIZHENG AND TANG JINFA |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputter transparent conducting films. |
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