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MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析
引用本文:杨武保,吕反修,唐伟忠,佟玉梅,于文秀.MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析[J].人工晶体学报,2000,29(1):54-58.
作者姓名:杨武保  吕反修  唐伟忠  佟玉梅  于文秀
作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
摘    要:利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜.沉积工艺分为两步:成核,CH4/H2=3;;生长,O2/CH4/H2=0.3:3:100;沉积过程中保持工作压力为4.0kPa,衬底温度500℃.拉曼、透射电镜、红外光谱、表面轮廓仪等的测试表明:膜层由纳米级金刚石晶粒组成,最大晶粒尺寸小于100nm,成核密度大于1011/cm2.成核面晶粒的点阵常数较大,表明存在较多缺陷,表面粗糙度小于2nm,在可见光区完全透明,红外光学性能接近金刚石单晶理论值.

关 键 词:MPCVD  纳米金刚石膜  拉曼光谱  红外光谱  
文章编号:1000-985X(2000)01-0012-05
修稿时间:1999-11-08

Preparation and Characterization of Nanocrystalline Diamond Films by MPCVD Method
YANG Wu-bao,LU Fan-xiu,TANG Wei-zhong,TONG Yu-mei,YU Wen-xiu.Preparation and Characterization of Nanocrystalline Diamond Films by MPCVD Method[J].Journal of Synthetic Crystals,2000,29(1):54-58.
Authors:YANG Wu-bao  LU Fan-xiu  TANG Wei-zhong  TONG Yu-mei  YU Wen-xiu
Abstract:
Keywords:MPCVD
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