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| 氟化镁薄膜的形成特点及镀膜工艺的最佳化 | |
| 引用本文： | В.П.Повещенко,Н.Г.Костюченко,В.В.Понкратов,В.М.Хололов,В.И.Мозгин,Ж.П.Трофимова,谭启坤.氟化镁薄膜的形成特点及镀膜工艺的最佳化[J].应用光学,1987(3). |
| 作者姓名： | В.П.Повещенко Н.Г.Костюченко В.В.Понкратов В.М.Хололов В.И.Мозгин Ж.П.Трофимова 谭启坤 |
| 摘 要： | 在光学零件生产中广泛利用氟化镁单层增透膜。为了保证膜层强度,镀膜零件必须加热到300℃。镀膜所有工序中,占时间最长是加热到300℃,并在此温度下保温一段时间,随后冷却到100℃。在许多情况下,零件必须加热到300℃,并在此温度下保温30到40分钟。同时,在300℃温度下保温取决于零件的尺寸及外形。为了保证真空装置 |
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