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| 薄SiO_2膜厚度的椭偏测量方法 | |
| 引用本文： | 张瑞智,罗晋生.薄SiO_2膜厚度的椭偏测量方法[J].物理,1989(5). |
| 作者姓名： | 张瑞智 罗晋生 |
| 作者单位： | 西安交通大学 (张瑞智)，西安交通大学(罗晋生) |
| 摘 要： | 应用常规椭偏方法测量膜厚小于 ３００Ａ的薄ＳｉＯ２膜厚度时，由于膜的折射率对已知参数比较敏感，因而测量误差较大．本文给出一种薄ＳｉＯ２膜厚度的椭偏测量方法，引入等效入射角的概念，用曲线拟合求交点的办法精确确定了膜的折射率和厚度． |
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