| 利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜 |
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| 引用本文： | 刘 震,王淑芳,赵嵩卿,周岳亮. 利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜[J]. 物理学报, 2005, 54(12): 5820-5823 |
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| 作者姓名： | 刘 震 王淑芳 赵嵩卿 周岳亮 |
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| 作者单位： | (1)河北大学物理科学与技术学院，保定 071002; (2)中国科学院物理研究所，北京 100080 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划(批准号：2006CB601005)资助的课题. |
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| 摘 要： | 利用脉冲激光沉积技术在氢还原气氛下成功地在双轴织构的Ni基带上外延了高质量的CeO2薄膜. x射线衍射θ—２θ扫描和ω扫描结果表明，CeO2薄膜在Ni基带上呈c轴方向生长，存在很强的平面外织构；极图和φ扫描显示它具有良好的平面内织构. Ni基片上织构的CeO2薄膜为进一步在其上外延高质量的YBa2Cu3O7-x超导薄膜提供了很好的模板.关键词：双轴织构的Ni基带2薄膜')" href="#">CeO2薄膜脉冲激光沉积
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| 关 键 词： | 双轴织构的Ni基带 CeO2薄膜 脉冲激光沉积 |
| 文章编号： | 1000-3290/2005/54（12）/5820-04 |
| 收稿时间： | 2005-03-24 |
| 修稿时间： | 2005-03-242005-07-13 |
Pulsed laser deposition of epitaxial CeO2 thin films on biaxially textured Ni substrate |
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| Liu Zhen,Wang Shu-Fang,Zhao Song-Qing and Zhou Yue-Liang. Pulsed laser deposition of epitaxial CeO2 thin films on biaxially textured Ni substrate[J]. Acta Physica Sinica, 2005, 54(12): 5820-5823 |
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| Authors: | Liu Zhen Wang Shu-Fang Zhao Song-Qing Zhou Yue-Liang |
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| Affiliation: | 1.Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China; 2. College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, China |
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| Abstract: | High-quality epitaxial CeO2 thin films were fabricated on the biaxially textured Ni substrates by pulsed laser deposition using a gas mixture of 4%H2 and 96%Ar. X-ray diffraction θ—２θ scan and ω-scan indicate the CeO2 thin films are c-axis textured, and φ-scan and pole figure of the films reveal the presence of good in-plane texture. The biaxially textured CeO2 films provide a good template for the fabrication of YBCO conductors. |
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| Keywords: | biaxially textured Ni substrate CeO2 thin films pulsed laser deposition |
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