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YVO4晶体缺陷分析
引用本文:邹宇琦,李新军,徐军,干福熹,田玉莲,黄万霞. YVO4晶体缺陷分析[J]. 人工晶体学报, 2002, 31(1): 14-17
作者姓名:邹宇琦  李新军  徐军  干福熹  田玉莲  黄万霞
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;上海大学,上海201800;中国科学院北京高能物理研究所国家同步辐射实验室,北京,100039
基金项目:国家自然科学基金(No.60047003)资助项目
摘    要:运用同步辐射白光X射线形貌术分析了YVO4的结构和缺陷行为,也观测了YVO4晶体(001)、(100)面的缺陷.发现在(001)面出现应力生长区、沿[100]方向的位错线以及晶体中镶嵌结构.运用白光形貌术拍摄到的劳埃斑,证明晶体为四方晶系.确定了小角晶界是引起多晶的主要原因.采用电子探针仪分析了散射颗粒形成是由杂质铁和铝的引入造成.

关 键 词:YVO4晶体  缺陷  同步辐射白光X射线形貌术  电子探针仪,
文章编号:1000-985X(2002)01-0014-04
修稿时间:2001-09-25

Study on Defects of YVO4 Crystal
Abstract:
Keywords:
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