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| X射线荧光分析用全聚焦分光晶体的磨制 | |
| 引用本文： | 郗秀荣,高新华,帅仁杰,张信钰.X射线荧光分析用全聚焦分光晶体的磨制[J].物理,1973(3). |
| 作者姓名： | 郗秀荣 高新华 帅仁杰 张信钰 |
| 作者单位： | 北京钢铁研究院 (郗秀荣，高新华，帅仁杰)，北京钢铁研究院(张信钰) |
| 摘 要： | 目前X射线光谱仪中常用的晶体有:平面反射晶体,柱面弯曲反射晶体,柱面弯曲透射晶体,边缘晶体和双曲晶体,其中以平面反射和柱面弯曲反射晶体的应用最为普遍. 由于平面反射晶体分光计是非聚焦的,衍射的X射线不能为探测器全部接收,因此,X射线强度损失较大. 柱面弯曲反射晶体,就其聚焦方式而言,有半聚焦和全聚焦之分.所谓半聚焦(Johan式)即将平面晶体弯成半径为2R的往面(R为聚焦圆半径),此时,晶体点阵面的曲率为1/2R,晶面与表面平行,在此情况下,仅仅与聚焦圆相切的那部分晶体能产生真正的聚焦作用.而全聚焦(Johanson式)晶体除晶面曲率为1/2R… |
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