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| 外延CVD设备 | |
| 引用本文： | 吉见武夫,櫔久?品?日立制作所 ,孙伯祥 ,辛永库.外延CVD设备[J].微电子学,1982(3). |
| 作者姓名： | 吉见武夫 櫔久?品?日立制作所 孙伯祥 辛永库 |
| 作者单位： | 日立制作所，日立制作所 |
| 摘 要： | CVD设备 欲使器件具有高可靠性,则须实现器件的高性能与高密度化,若干年来,这项技术研究已达到了白热化的程度,而且这种白热状态今后仍将保持下去。特别是,由于微细加工技术的进步,半导体器件制造技术必将产生实质性的重大飞跃。如图1所示,对于器件的动向 |
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