| 中频对向靶磁控溅射制备超薄ZnO薄膜及其在太阳电池中的应用 |
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| 引用本文： | 李微,孙云,敖建平,何青,刘芳芳,李凤岩. 中频对向靶磁控溅射制备超薄ZnO薄膜及其在太阳电池中的应用[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(3): 584-588 |
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| 作者姓名： | 李微 孙云 敖建平 何青 刘芳芳 李凤岩 |
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| 作者单位： | 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 中频溅射制备ZnO薄膜可改善射频磁控溅射方式中沉积速率过慢的缺点.对于多层薄膜的制备,对向靶的设计可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤.本文采用这项技术制备厚度约为50nm的ZnO薄膜,通过调整工作压强、溅射功率、氧氩比等工艺条件,制备出均匀致密,结晶质量高,电阻率在102～103Ω·cm之间,可见光区透过率达到90;的ZnO薄膜.将其应用到CIGS太阳电池中发现,具有50nm厚度的ZnO层的CIGS太阳电池的性能较无ZnO层的太阳电池都有了很大提高.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 中频对向靶 CIGS太阳电池 |
| 文章编号： | 1000-985X（2007）03-0584-05 |
| 修稿时间： | 2006-11-22 |
Fabrication of ZnO Thin Films by MF Magnetron Sputtering with Facing Targets and Its Application in Solar Cell |
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| LI Wei,SUN Yun,AO Jian-ping,HE Qing,LIU Fang-fang,LI Feng-yan. Fabrication of ZnO Thin Films by MF Magnetron Sputtering with Facing Targets and Its Application in Solar Cell[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(3): 584-588 |
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| Authors: | LI Wei SUN Yun AO Jian-ping HE Qing LIU Fang-fang LI Feng-yan |
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| Affiliation: | Institute of Photoelectranic Thin Film Device and Technology, Key Laboratory of Photoelectronic Thin Film Device and Technology of Tianjin, Nankai University, Tianjin 300071, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO films MF facing targets CIGS solar cell |
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