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| 光刻机自动对准工作台控制系统设计 | |
| 引用本文： | 刘玄博,周庆奎.光刻机自动对准工作台控制系统设计[J].电子工业专用设备,2014(1). |
| 作者姓名： | 刘玄博 周庆奎 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所; |
| 摘 要： | 光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm,因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。 |
| 关 键 词： | 掩模光刻机 工作台 控制系统 |
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