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不稳定液体基底上溅射金属Ag薄膜的非平衡生长
引用本文:李亦宁,冯春木,叶高翔,焦正宽. 不稳定液体基底上溅射金属Ag薄膜的非平衡生长[J]. 低温物理学报, 2002, 24(1): 74-80
作者姓名:李亦宁  冯春木  叶高翔  焦正宽
作者单位:1. 嘉兴学院医学院,浙江嘉兴,314001
2. 浙江大学物理系,杭州,310027;浙江大学测试中心,杭州,310028
3. 浙江大学物理系,杭州,310027
摘    要:本文研究了不稳定液体基底上溅射金属薄膜的非平衡生长现象。实验发现:此类薄膜的生长速率不再是常数,与基底温度、表面覆盖率密切相关;薄膜的表面形貌受到了基底温度、溅射功率、固体-液体界面性质等因素的复杂影响。分析表明:生长界面的表面张力及其各向异性对薄膜生长过程起着重要的作用。

关 键 词:分形几何 非平衡生长 不稳定液体基底 溅射 金属薄膜 Ag 银 生长速率 表面形貌
修稿时间:2001-10-15

FAR-FROM EQUILIBRIUM GROWTH OF A SPUTTERED Ag FILMS ON UNSTABLE LIQUID SUBSTRATES
Abstract:
Keywords:
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