| Si基上电沉积Cu薄膜的形貌与择优取向 |
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| 引用本文： | 张雅婷,徐章程,李菲晖.Si基上电沉积Cu薄膜的形貌与择优取向[J].人工晶体学报,2006,35(4):728-731. |
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| 作者姓名： | 张雅婷 徐章程 李菲晖 |
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| 作者单位： | 南开大学泰达应用物理学院,弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部重点实验室,天津,300457;天津大学化学化工学院,天津,300072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.60444010,No.60506013)，南开大学引进人才科研启动基金，教育部留学回国人员科研启动基金，长江学者和创新团队发展计划资助 |
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| 摘 要： | 采用电化学沉积技术在Si衬底上沉积了Cu膜.场发射扫描电镜和X射线衍射分析表明:膜中存在Cu纳米颗粒, 并且表现出择优取向,与衬底的取向和斜切角度以及沉积电流密度有关.在Si(100) 衬底上,铜(220)晶面的织构系数随电流密度的增加而增加.在相同沉积条件下,在斜切角较小的Si(111)和Si(100)衬底上择优取向面都是铜 (220) 面,而在斜切角为4°的Si(111)衬底上铜(111)晶面为择优取向面.
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| 关 键 词： | Cu 电沉积 Si衬底 择优取向 |
| 文章编号： | 1000-985X（2006）04-0728-04 |
| 收稿时间： | 02 6 2006 12:00AM |
| 修稿时间： | 2006-02-06 |
Morphology and Preferential Orientation of Electro-deposited Cu/Si Thin Films |
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| ZHANG Ya-ting,XU Zhang-cheng,LI Fei-hui.Morphology and Preferential Orientation of Electro-deposited Cu/Si Thin Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(4):728-731. |
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| Authors: | ZHANG Ya-ting XU Zhang-cheng LI Fei-hui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Cu electro-deposition Si substrate preferential orientation |
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