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| 光刻技术的发展动态 | |
| 引用本文： | 谢常青. 光刻技术的发展动态[J]. 微纳电子技术, 1997, 0(6) |
| 作者姓名： | 谢常青 |
| 作者单位： | 中科院微电子中心 |
| 摘 要： | 介绍了目前几种主流光刻技术（光学光刻，电子束光刻，ｘ射线光刻和离子束光刻）的发展动态 |
| 关 键 词： | 光刻技术 |
Development Trend of Lithography Technology |
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| Abstract: | The current development trend of some dominant lithography technologies is summarized in this paper,including optical lithography,electron beam lithography,x ray lithography and ion beam lithography. |
| Keywords: | Lithography technology |
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