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金属/绝缘层/硅(MIS)隧道二极管的发光机理
引用本文:俞建华,孙承休,高中林,魏同立,王启明.金属/绝缘层/硅(MIS)隧道二极管的发光机理[J].半导体学报,1999,20(5):421-424.
作者姓名:俞建华  孙承休  高中林  魏同立  王启明
作者单位:[1]东南大学电子工程系 [2]中国科学院半导体研究所
摘    要:金属/绝缘层/硅(MIS)隧道发光二极管的发光机理可以归结为表面等离极化激元(SPP)与界面粗糙度的耦合.电流-电压特性曲线中6.5V附近的一个负阻和发射光谱中475nm的峰显示,在硅/二氧化硅界面激发起了与之相应的等离子体振荡.

关 键 词:隧道二极管  MIS  硅基  发光器件
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