相反电荷取代的卟啉和酞菁化合物分子沉积膜 |
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引用本文: | 毛海舫,李洪武,孙轶鹏,田宏健,周庆复,张希,沈家聪,许慧君.相反电荷取代的卟啉和酞菁化合物分子沉积膜[J].中国科学B辑,1998,28(2):172-177. |
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作者姓名: | 毛海舫 李洪武 孙轶鹏 田宏健 周庆复 张希 沈家聪 许慧君 |
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作者单位: | 1. 中国科学院有机化学研究所,上海,200032 2. 吉林大学化学系,长春,130023 3. 中国科学院感光化学研究所,北京,100101 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目 !(批准号 :5 934 30 11),国家高技术新材料专家委员会及吉林大学国家教育委员会超分子结构与谱学开放实验室 |
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摘 要: | 利用分子沉积技术成功地制备了多种卟啉 /卟啉、酞菁 /酞菁、卟啉 /酞菁化合物的分子沉积膜 (MD膜 ) .运用紫外 可见吸收光谱跟踪了MD膜的交替沉积过程 ,说明这类MD膜具有很好的层状均匀成膜的特点 .并且用膜天平 (QCM)技术和偏振紫外 可见吸收光谱技术对膜的结构进行了表征 .结果表明 ,卟啉和酞菁大环在MD膜中具有一定的取向 ,卟啉大环与基片法线的平均取向为 38℃ ,而酞菁大环为32℃ .
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关 键 词: | 分子沉积膜 酞菁 卟啉 紫外-可见吸收光谱 |
修稿时间: | 1997年6月11日 |
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