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| 麻省理工学院林肯实验室的193nm光刻 | |
| 引用本文： | 吴自勤,编.麻省理工学院林肯实验室的193nm光刻[J].物理,1996(8). |
| 作者姓名： | 吴自勤 编 |
| 摘 要： | 麻省理工学院林肯实验室的１９３ｎｍ光刻麻省理工学院林肯实验室正在发展１９３ｎｍ光刻，其目标是：使０．２５μｍ光刻达到工业应用，并能使之扩展到优于０．１８μｍ．此技术利用ＡｒＦ准分子激光器发出的１９３．４ｎｍ的光进行光刻．此项目在林肯实验室已进行了５年... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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