| D4等离子体聚合制备超薄抗磨损膜 |
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| 引用本文： | 马於光 杨梅林. D4等离子体聚合制备超薄抗磨损膜[J]. 功能高分子学报, 1992, 5(1): 65-70 |
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| 作者姓名： | 马於光 杨梅林 |
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| 作者单位： | 吉林大学，吉林大学，吉林大学，吉林大学，吉林大学 化学系 130023，化学系 130023，化学系 130023，化学系 130023，化学系 130023 |
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| 摘 要： | 在本工作中,利用射频等离子体成功地制备了具有致密、耐腐、绝缘性能的超薄抗磨损膜。用耐磨仪测其硬度,磨损转数已达10000转以上。膜的面电阻率达10~(12)Ω数量级。PPD_4膜耐强酸和几乎所有的有机溶剂。聚合过程主要是由D_4单体的开环和消除甲基基团产生自由基活性点进行的。开环反应对线性聚合物的生成有贡献,甲基消除反应对支化交联聚合物的生成有贡献。PPD_4膜的交联度可由放电功率来调节。
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| 关 键 词： | 抗磨损膜 等离子体聚合 有机硅 |
The Wear-resistant Ultra-Thin Films Deposited by D_4 Plasma |
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| Ma Tugang,Yang Meilin,Wang Lingchun Mo Kunyan Shen Jiacong. The Wear-resistant Ultra-Thin Films Deposited by D_4 Plasma[J]. Journal of Functional Polymers, 1992, 5(1): 65-70 |
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| Authors: | Ma Tugang Yang Meilin Wang Lingchun Mo Kunyan Shen Jiacong |
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| Affiliation: | Ma Tugang,Yang Meilin,Wang Lingchun Mo Kunyan Shen Jiacong Department of Chemistry,Jilin University,Changchun,130023 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma octamethylcyclotetrasiloxan? wear-resistant fi1m |
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