| CF4等离子体表面氟化PTMSP膜 |
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| 引用本文： | 林晓,肖军.CF4等离子体表面氟化PTMSP膜[J].功能高分子学报,1992,5(4):306-311. |
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| 作者姓名： | 林晓 肖军 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所，中国科学院长春应用化学研究所，中国科学院长春应用化学研究所，中国科学院长春应用化学研究所，中国科学院长春应用化学研究所，中国科学院长春应用化学研究所 长春 130022，长春 130022，长春 130022，长春 130022，长春 130022，长春 130022 |
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| 摘 要： | 本文对聚三甲基硅基丙炔(PTMSP)膜进行CF_4等离子体表面氟化研究。改性的PTMSP膜氧氮选择性显著提高(P_(O_2)/P_(N_2)=4-5,P_(O_2)=10~2-10~3barrer)。等离子体改性条件,如处理时间、单体压力、放电功率对PTMSP膜透气性的影响进行了研究。XPS谱分析表明改性后,膜表层化学组成发生了显著变化、碳硅含量大幅度减小,氟含量随着处理程度的增加而增加,氟碳比与膜的选择性有着密切的关系,当 F/C>1时,膜的P_(O_2)/P_(N_2)可达4以上。
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| 关 键 词： | PTMSP 等离子体 表面氟化 XPS 膜 |
Surface Fluorination of PTMSP Membranes with CF_4 Plasma |
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| Lin Xiao,Xiao Jun,Yu Yali,Chen Jie,Zheng Guodong,Xu Jiping Changchun Institute of Applied Chemistry,Academia Sinica,Changchun.Surface Fluorination of PTMSP Membranes with CF_4 Plasma[J].Journal of Functional Polymers,1992,5(4):306-311. |
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| Authors: | Lin Xiao Xiao Jun Yu Yali Chen Jie Zheng Guodong Xu Jiping Changchun Institute of Applied Chemistry Academia Sinica Changchun |
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| Institution: | Lin Xiao,Xiao Jun,Yu Yali,Chen Jie,Zheng Guodong,Xu Jiping Changchun Institute of Applied Chemistry,Academia Sinica,Changchun 130022 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PTMSP plasma surface fluorination oxgen-nitrogen permselectivity XPS |
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