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应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank—Read源的关系研究
引用本文:
邹吕凡,王占国.应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank—Read源的关系研究[J].半导体学报,1996,17(3):186-190.
作者姓名:
邹吕凡
王占国
作者单位:
中国科学院半导体研究所
摘 要:
基于能量最小近氦模型,研究了应变异质结外延材料,中产生了Frand-Read源以释放失配能力所需GeSi合金缓冲层的厚度,对GexSi1-x/Si进行了具体计算,其结果表明:产生Frank-Read源时缓冲层厚度要比临界厚度大得多,Lmin=1300A是钉扎点间的最小距离。
关 键 词:
应变异质结
外延材料
GoSi合金
Frank-Read源
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