| 高功率脉冲非平衡磁控溅射放电特性和参数研究 |
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| 引用本文： | 牟宗信,王春,贾莉,牟晓东,藏海荣,刘冰冰,董闯. 高功率脉冲非平衡磁控溅射放电特性和参数研究[J]. 核聚变与等离子体物理, 2010, 30(4): 365-369 |
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| 作者姓名： | 牟宗信 王春 贾莉 牟晓东 藏海荣 刘冰冰 董闯 |
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| 作者单位： | 三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024;三束材料改性教育部重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50407015);辽宁省教育厅资助科研项目 |
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| 摘 要： | 用线圈电流控制非平衡磁场,用汤森放电击穿形成深度自触发放电,用磁阱捕获放电形成的二次电子和导致漂移电流,形成了高功率非平衡磁控溅射放电。采用偏压为-100V相对磁控靶放置的圆形平面电极收集饱和离子电流;在距离磁控靶14cm的位置由Langmuir探针测量浮置电位;示波器测量磁控靶的脉冲电压、电流、浮置电位和饱和离子电流信号。装置的放电脉冲功率达到0.9MW,脉冲频率最大值为40Hz左右,空间电荷限制条件是控制电子电流和离子电流的主要机制。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 放电 脉冲技术 |
| 收稿时间： | 2010-03-12 |
Study of discharge properties and parameters of high power pulsed unbalanced magnetron sputtering |
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| MU Zong-xin,WANG Chun,JIA Li,MU Xiao-dong,ZANG Hai-rong,LIU Bing-bing,DONG Chuang. Study of discharge properties and parameters of high power pulsed unbalanced magnetron sputtering[J]. Nuclear Fusion and Plasma Physics, 2010, 30(4): 365-369 |
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| Authors: | MU Zong-xin WANG Chun JIA Li MU Xiao-dong ZANG Hai-rong LIU Bing-bing DONG Chuang |
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| Affiliation: | (Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Ministry of Education, School of Physics and Optoelectronic technology, Dalian University of Technology, Dalian 116024) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Magnetron sputtering Discharge Pulsed technology |
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